摩爾定律,摩爾定律的由來(lái)，變種，終結(jié)，影響，時(shí)效探討
"摩爾定律"的"始作涌者"是戈頓摩爾,大名鼎鼎的芯片制造廠(chǎng)商 Intel 公司的創(chuàng)始人之一.20 世紀(jì) 50 年代 末至用年代初半導(dǎo)體制造工業(yè)的高速發(fā)展,導(dǎo)致了"摩爾定律"的出臺(tái).
早在 1959 年,美國(guó)著名半導(dǎo)體廠(chǎng)商仙童公司首先推出了平面型晶體管,緊接著于 1961 年又推出了平面型 集成電路.這種平面型制造工藝是在研磨得很平的硅片上,采用一種所謂"光刻"技術(shù)來(lái)形成半導(dǎo)體電路的 元器件,如二極管,三極管,電阻和電容等.只要"光刻"的精度不斷提高,元器件的密度也會(huì)相應(yīng)提高, 從而具有極大的發(fā)展?jié)摿?因此平面工藝被認(rèn)為是"整個(gè)半導(dǎo)體工業(yè)鍵",也是摩爾定律問(wèn)世的技術(shù)基礎(chǔ).
1965 年 4 月 19 日,時(shí)任仙童半導(dǎo)體公司研究開(kāi)發(fā)實(shí)驗(yàn)室主任的摩爾應(yīng)邀為《電子學(xué)》雜志 35 周年專(zhuān)刊 寫(xiě)了一篇觀察評(píng)論報(bào)告,題目是:"讓集成電路填滿(mǎn)更多的元件".摩爾應(yīng)這家雜志的要求對(duì)未來(lái)十年間半 導(dǎo)體元件工業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)作出預(yù)言.據(jù)他推算,到 1975 年,在面積僅為四分之一平方英寸的單塊硅芯片 上,將有可能密集 65000 個(gè)元件.他是根據(jù)器件的復(fù)雜性(電路密度提高而價(jià)格降低)和時(shí)間之間的線(xiàn)性 關(guān)系作出這一推斷的,他的原話(huà)是這樣說(shuō)的:"最低元件價(jià)格下的理雜性每年大約增加一倍.可以確信,短 期內(nèi)這一增長(zhǎng)率會(huì)繼續(xù)保持.即便不是有所加快的話(huà).而在更長(zhǎng)時(shí)期內(nèi)的增長(zhǎng)率應(yīng)是略有波動(dòng),盡管役有 充分的理由來(lái)證明,這一增長(zhǎng)率至少在未來(lái)十年內(nèi)幾乎維持為一個(gè)常數(shù)."這就是后來(lái)被人稱(chēng)為"摩爾定律" 的最初原型.
